深紫外線(DUV)用 偏光子

DUV偏光子
深紫外(DUV)の光に対応した偏光子です。
プリズム型ではないため、光学系のコンパクト化が可能です。

波長266nm,313nm用です。
材料に酸化ハフニウムと酸化シリコンを用いることによって深紫外においても高い透過率を実現しました。

高信頼性

基板には石英、多層膜には酸化シリコンと酸化ハフニウムの多層膜をもちいています。
400度以上の高熱でも変化がなく、高い信頼性を持っています。

領域分割

領域分割
可視波長用と同様に1枚の基板上の任意の領域に任意の方位の偏光子を実現できます。
お客様のご要望に合わせた領域分割が可能です。
カスタマイズについて

反射型

フォトニック結晶の偏光子は反射型です。
透過偏光に直交する偏光は反射されます。
偏光分離素子(PBS)としてもご利用いただけます。

仕様

   
中心波長 266nm もしくは 313nm
動作帯域 中心波長±2nm
透過率 80%以上
消光比 1:1000以上
入射角 垂直±5度
有効領域 Ø10mm
欠陥仕様 Ø300µm以上なきこと
ホルダー Ø25.4mmX5.5mmt
動作波長、消光比、有効領域、外形のカスタマイズお受けいたします。
仕様は予告なく変更されることがあります。ご留意ください。