高速マッピングエリプソメータ ME-210-T/ME-210

  • 当社のエリプソメータMEシリーズは、独自の偏光センサと解析ソフトにより、薄膜の厚さ/屈折率の分布を、高速・高精細・高精度に測定することができます。
  • 標準でφ8“ウェハ、オプションでφ12”ウェハ全面まで測定可能です。
  • 標準タイプME-210と、透明基板に対応するME-210-Tがございます。
ME-210-t

測定面積に応じて、3種類の測定モードから選択して測定します。

仕様

※Si上のSiO2膜(膜厚約100nm)の1点を100回繰り返し測定時の標準偏差値
製品仕様は予告無しに変更することがあります。
ME-210-TME-210
測定
繰返し再現性膜厚: 0.1nm, 屈折率: 0.001 ※
最大測定速度900点/分以上(広域モード 100mm角領域測定時)
5,000点/分以上(高精細モード 1mm角領域測定時)
光源半導体レーザ(発振波長 636nm)
測定スポット広域モード:0.5mm角、高精細モード:5.5µm角
入射角度70度
透明基板対応有り無し
筐体
ステージサイズ最大8インチウェハー対応(オプションで⌀300mmまで対応可)
寸法650 W × 650 D × 1744 H [mm]650 W × 650 D × 1740 H [mm]
重量約200kg
その他
インターフェースGigE(カメラ信号)
電源AC100~240V
ソフトウェアME-View
付属品デスクトップパソコン、モニター、取扱説明書、ソフトウェアCD、標準サンプル