膜厚・屈折率分布測定エリプソメータMEシリーズ

ME-210/ME-210-T

1nm以下の膜厚変化も高速・高密度に面測定できるφ8“ウェハ（オプションで⌀300mmまで対応可）まで全面測定可能な、高速マッピングエリプソメータです。
更に、微小領域測定、透明基板対応など、様々な膜厚分布測定に対応します。

スピンコートしたレジスト膜厚分布

スペック
	測定
繰返し再現性	膜厚: 0.1nm 屈折率: 0.001 ※Si上のSiO2膜（膜厚約100nm）の１点を100回繰り返し測定時の標準偏差値
測定速度	最大測定速度 900点/分以上（広域モード 100mm角領域測定時） 5,000点/分以上（高精細モード 1mm角領域測定時）
光源	半導体レーザ（発振波長 636nm）
測定スポット	広域モード：0.5mm角高精細モード：5.5µm角
入射角度	70度
寸法 (W x D x H)	270 × 337 × 最大631mm
透明基板対応	ME-210-T 　対応 ME-210　　非対応
	筐体
ステージサイズ	最大８インチウェハー対応（オプションで⌀300mmまで対応可）
寸法 (W x D x H)	ME-210-T　650 × 650 × 1744mm ME-210　　650 × 650 × 1740mm
重量	約200kg
インターフェース	GigE（カメラ信号）
	その他
インターフェース	GigE（カメラ信号）
電源	AC100～240V
ソフトウェア	ME-View
付属品	デスクトップパソコン、モニター、取扱説明書、標準サンプル